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- Osterrieth, Christian
- Patentrecht
- 978-3-406-74614-7
- C.H. Beck
- 6. Aufl. 2021
- Handbuch
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Beschreibung:
Reihe: NJW-Praxis. Band: 75
Patentrecht professionell.
Diese bewährte Einführung stellt das Patent- und Gebrauchsmusterrecht mit den Bezügen zum Lizenzvertrags- und Kartellrecht dar. Der Band behandelt auch u.a.:
- Grundzüge des internationalen Patentrechts und Europäischen Patentsystems
- Gegenstand, Voraussetzungen und Wirkung des Patentschutzes
- Patentverletzungsprozess
- Patentstreitverfahren vor dem Einheitlichen Patentgericht
- Arbeitnehmererfindungsrecht
- Gebrauchsmusterrecht.
Der Anhang enthält u.a. Muster deutscher und europäischer Patentschriften einschließlich Merkmalsanalyse.
Die Neuauflage berücksichtigt u.a. das EU-Abkommen zum Einheitlichen Patentgericht (UPC), das infolge der Ratifizierung auch durch die Bundesrepublik bald in Kraft gesetzt sein und das europäische Patentsystem maßgeblich reformieren wird. Außerdem wird der aktuelle Stand des geplanten Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts dargestellt.
Diese praxisnahe Einführung stellt das moderne Patent- und Gebrauchsmusterrecht, auch unter dem Gesichtspunkt des europarechtlichen und internationalen Schutzes, nebst den Bezügen zum Lizenzvertrags- und Kartellrecht dar.
Im Anhang sind u.a. Muster deutscher und europäischer Patentschriften nebst Merkmalsanalyse dargestellt.
Die Neuauflage bringt das Werk insgesamt auf den Stand Frühjahr 2021 in Gesetzgebung, Rechtsprechung und Literatur. Berücksichtigt wird dabei insbesondere bereits das EU-Abkommen zum Einheitlichen Patentgericht (UPC), das infolge der Ratifizierung auch durch die Bundesrepublik nunmehr in Kraft gesetzt ist und das europäische Patentsystem maßgeblich reformiert. Außerdem wird der aktuelle Stand des geplanten Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts dargestellt.