UV-laser-basierte Erzeugung von planaren, polymeren Bragg-Multiplexer-Strukturen
Wochnowski, Carsten
Produktnummer:
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| Autor: | Wochnowski, Carsten |
|---|---|
| Themengebiete: | Bragg-Struktur Excimerlaser Gitter Integrierte Optik Multiplexer Phasenmasken-Methode Polymethylmethacrylat UV-Kontaktmasken-Lithographie UV-Laserchemie |
| Veröffentlichungsdatum: | 18.04.2007 |
| EAN: | 9783933762191 |
| Sprache: | Deutsch |
| Seitenzahl: | 180 |
| Produktart: | Kartoniert / Broschiert |
| Herausgeber: | Vollertsen, F |
| Verlag: | BIAS |
Produktinformationen "UV-laser-basierte Erzeugung von planaren, polymeren Bragg-Multiplexer-Strukturen"
Im Rahmen dieser Promotionsarbeit wurde die UV-Iaserbasierte Herstellung von planaren, polymeren Multiplexer-Komponenten untersucht, die optische Signale verschiedener Wellenlängen in eine optische Datenübertagungsleitung ein- und auskoppeln können. Dabei wird als Herstellungsverfahren eine laserbasierte Technologie zur UV photochemischen Modifizierung der optischen Eigenschaften von Polymeren eingesetzt. Durch UV-Iaserlithographische Verfahren (UV-Kontaktmaskenverfahren, Phasenmasken Methode) ermöglichte dies eine lokale und reproduzierbare Erhöhung des Brechungsindexes und somit die Erzeugung von integriert-optischen Mikrostrukturen (Lichtwellenleiter, Gitterstrukturen) in der Oberfläche eines planaren Polymerchips. Da im Vergleich zu klassischen Herstellungsverfahren, die auf teuren anorganischen Materialien basieren, viele Prozessschritte wegfallen (z.B. Spin-Coating im Reinraum, Ätzen von dünnen Schichten), können auf diese Weise kostengünstige CWDM Multiplexer-Komponenten produziert werden (Prozesskettenverkürzung).
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