Patentrecht
Ann, Christoph
Produktnummer:
18319db81d9fff45429f06f61b93d57d79
Autor: | Ann, Christoph |
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Themengebiete: | EPG Gebrauchsmuster Gebrauchsmusterrecht Patent Patentrecht |
Veröffentlichungsdatum: | 10.12.2021 |
EAN: | 9783406743252 |
Auflage: | 8 |
Sprache: | Deutsch |
Seitenzahl: | 1096 |
Produktart: | Gebunden |
Verlag: | C.H.Beck |
Untertitel: | Lehrbuch zum deutschen und europäischen Patentrecht und Gebrauchsmusterrecht |
Produktinformationen "Patentrecht"
Dieses nach Umfang und Renommee führende patentrechtliche Lehrbuch entwickelt das System des internationalen, europäischen und deutschen Patentrechts ebenso klar wie profund. Dieses Standardwerk zeichnet aus: wissenschaftlich höchstes Niveau bei gleichzeitiger Verständlichkeit größter Nutzen auch für die Praxis dank Übersichtlichkeit und Argumentationshilfen anschauliche Darstellung der auch für das Patentrecht oft wichtigen technischen Zusammenhänge Prof. Dr. Christoph Ann ist Inhaber des Lehrstuhls für Wirtschaftsrecht und Geistiges Eigentum an der TU München und Autor zahlreicher Veröffentlichungen, insbesondere zum Recht des Technologieschutzes (Patent- und Geheimnisschutz sowie Lizenzvertragsrecht). Prof. Dr. Lena Maute ist Juniorprofessorin für Bürgerliches Recht an der Universität Augsburg und forscht vorwiegend zum Recht des Geistigen Eigentums und der Digitalisierung. Zielgruppe des Werks sind Studierende (Jura, Ingenieur- und Naturwissenschaften, BWL), Rechts- und Patentanwaltschaft, Richterschaft, Patentämter, Unternehmen und Wissenschaft. Zum Werk Das nach Umfang und Renommee führende patentrechtliche Lehr- und Handbuch entwickelt das System des internationalen, europäischen und deutschen Patentrechts ebenso klar wie profund. Dieses Standardwerk zeichnet aus:die praktische Anwendbarkeitdie prägnante und zuverlässige Erschließung des Meinungsstandes in Schrifttum und Judikaturdie Handschrift des souveränen, stets auf das Wesentliche bedachten Kenners, der auch die für das Patentrecht oft so wichtigen technischen Zusammenhänge anschaulich darstelltdie Berücksichtigung des wegen der einfacheren Schutzanmeldung attraktiven Gebrauchsmusterrechts mit seinen Parallelen und Besonderheiten im Vergleich zum Patentrecht Vorteile auf einen BlickZusammenschau des internationalen, europäischen und deutschen Patentrechtswissenschaftlich höchstes Niveau bei gleichzeitiger Verständlichkeitgrößter Nutzen auch für die Praxis dank Übersichtlichkeit und Argumentationshilfen Zur Neuauflage Die Neuauflage reflektiert die lebhafte Rechtsentwicklung. Verarbeitet ist zudem eine Fülle neuer Rechtsprechung europäischer und deutscher Gerichte sowie der Beschwerdekammern des EPA. Zielgruppe Für Studierende (Rechtswissenschaft und technische Berufe), Rechtsreferendare, Rechtsanwälte, Patentanwälte (auch in der Ausbildung), Richter, Justitiare in Wirtschaftsunternehmen, Rechtswissenschaftler.

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