Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz

Zum Werk Das Patentgesetz und das Gebrauchsmustergesetz stehen im Mittelpunkt des Gewerblichen Rechtsschutzes und sind von großer Bedeutung für alle Patentanwältinnen und Patentanwälte, mit Patentstreitigkeiten befassten Rechtsanwältinnen und Rechtsanwälte sowie Unternehmen, die ihre Erfindungen schützen wollen oder gegen Schutzanmaßungen Dritter vorgehen müssen. Der Praxiskommentar verbindet das Patentrecht mit dem eng verwandten Gebrauchsmusterrecht. Vorrangiger Bezugspunkt der Erläuterungen ist die Rechtsprechung sowohl der Instanzgerichte, des BPatG und des BGH als auch der Beschwerdekammern des Deutschen Patent- und Markenamtes und des Europäischen Patentamts. Eine Stärke des Kommentars ist, dass auch das Marken- und Geschmacksmusterrecht, das Recht des unlauteren Wettbewerbs und das Urheberrecht in die Erläuterungen einbezogen sind. Vorteile auf einen Blickprägnant und praxisorientiertrechtsprechungsorientiertwichtige Nebenvorschriften im Textanhang Zur Neuauflage Die Neuauflage berücksichtigt u.a.:das Zweite Gesetz zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts vom 10. August 2021 mit seinen zahlreichen und weitreichenden Änderungenzahlreiche Entscheidungen des Bundesgerichtshofs, der Instanzgerichte und des Bundespatentgerichtswichtige Entscheidungen des Deutschen Patent- und Markenamts (DPMA), des Europäischen Patentamts (EPA), des Bundesverfassungsgerichts (BVerfG), des Europäischen Gerichtshofs (EuGH) und des Europäischen Gerichts erster Instanz (EuG)Maßgebliche Entscheidungen der Instanzgerichte, insbesondere Oberlandesgerichte Zielgruppe Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Referendarinnen und Referendare, Assessorinnen und Assessoren sowie sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.