NJW-Praxis / Patentrecht
Osterrieth, Christian
Produktnummer:
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Autor: | Osterrieth, Christian |
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Themengebiete: | Arbeitnehmererfindungsrecht EPG/UPC Einheitliches Patentgericht Gebrauchsmusterrecht Marken Markenamt Patentamt Patente Patentverletzungsprozess |
Veröffentlichungsdatum: | 08.08.2025 |
EAN: | 9783406818738 |
Auflage: | 7 |
Sprache: | Deutsch |
Seitenzahl: | 338 |
Produktart: | Kartoniert / Broschiert |
Verlag: | C.H.Beck |
Produktinformationen "NJW-Praxis / Patentrecht"
Zum WerkDiese praxisnahe Einführung stellt das moderne Patent- und Gebrauchsmusterrecht, auch unter dem Gesichtspunkt des europarechtlichen und internationalen Schutzes, nebst den Bezügen zum Lizenzvertrags- und Kartellrecht dar.Im Anhang sind u.a. Muster deutscher und europäischer Patentschriften nebst Merkmalsanalyse dargestellt.Vorteile auf einen Blickmit dem EU-Abkommen zum Einheitlichen Patentgerichtmit internationalem Rechtsschutzmit der Novellierung patentrechtlicher Vorschriften und anderer Gesetze des Gewerblichen RechtsschutzesZur NeuauflageSchwerpunkt der Neuauflage ist die Einrichtung des einheitlichen Patentgerichts für die Mitgliedstaaten der Europäischen Union (EPG/UPC). Darüber hinaus wird das Werk insgesamt auf den aktuellen Stand in Gesetzgebung, Rechtsprechung und Literatur gebracht.ZielgruppeFür Rechtsreferendarinnen und -referendare, Rechtsanwaltschaft, Patentanwaltschaft (in der Ausbildung), Studierende (Rechtswissenschaft und technische Berufe), Richterschaft, Erfinderinnen und Erfinder, Rechtsabteilungen von Wirtschaftsunternehmen.

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