Low-Temperature Silicon Deposition by Means of Hot-Wire Chemical Vapour Deposition
King, Hunter John
Produktnummer:
185c540e6c6c044eb6afbd035628f43258
| Autor: | King, Hunter John |
|---|---|
| Themengebiete: | HWCVD MEMS Materials Scientists Physicists Silicon Simulation |
| Veröffentlichungsdatum: | 23.06.2022 |
| EAN: | 9783839618202 |
| Sprache: | Englisch |
| Seitenzahl: | 114 |
| Produktart: | Kartoniert / Broschiert |
| Verlag: | Fraunhofer Verlag |
Produktinformationen "Low-Temperature Silicon Deposition by Means of Hot-Wire Chemical Vapour Deposition"
This work showcases the development of an industrially relevant process for the low substrate-temperature deposition of silicon for MEMS applications. This opens possibilities to deposit MEMS structures directly onto pre-fabricated ASICs, in addition to temperature sensitive substrates. Additionally, this work details the development of an advanced simulation model to optimize film crystallinity, without the need for increased temperatures.
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