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Ballistischer Transport in nanoskaligen Si/SiGe-Heterofeldeffektstrukturen

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Produktnummer: 1803a24bb3600445aab67c9c8014374810
Autor: Wieser, Ulrich
Themengebiete: Nanoelektronik Naturwissenschaft Physik
Veröffentlichungsdatum: 01.07.2001
EAN: 9783934453265
Auflage: 1
Sprache: Deutsch
Seitenzahl: 148
Produktart: Buch
Herausgeber: Kunze, Ulrich
Verlag: Bochumer Universitätsverlag Westdeutscher Universitätsverlag
Produktinformationen "Ballistischer Transport in nanoskaligen Si/SiGe-Heterofeldeffektstrukturen"
Im Elektronenkanal modulationsdotierter Si/SiGe-Hetero-feld-effekttransistoren werden durch Nanostrukturierung der Oberfläche ein- bzw. nulldimensionale elektronische Systeme erzeugt. Die Nanostrukturierung erfolgt entweder durch dynamisches Pflügen eines Resists mit dem Raster-kraftmikroskop oder durch Elektronenstrahllithographie und anschließendes materialselektives naß-chemisches Ätzen. Die minimalen Strukturabmessungen liegen bei etwa 15 nm. In Quantenpunktkontakten läßt sich bei T = 4.2 K die sukzessive Besetzung eindimensionaler Subbänder mit steigender Gatespannung beobachten. Unter endlicher Drainspannung führt die Auf-heizung von Elektronen zu negativ differentiellem Leitwert in der Strom-Spannungs-Kennlinie. Neben ballistischen Effekten finden sich in einigen Quantenpunktkontakten und in lithographisch erzeugten Quantenpunkten auch Einzelelektroneneffekte, die als Coulomb-Blockade-Oszillationen im Leitwert sichtbar sind.
Bücherregal gefüllt mit juristischen Werken

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